講座題目：傳感器生產(chǎn)的薄膜工藝和設(shè)備制造 Thin Film Process and Equipment for MEMS Manufacturing

報(bào) 告 人：唐云俊

時(shí) 　 間：2019年10月30日(周三)9:00-11:00

地 　 點(diǎn)：中關(guān)村校區(qū)5號(hào)教學(xué)樓502-1

主辦單位：研究生院、材料學(xué)院

報(bào)名方式：登錄北京理工大學(xué)微信企業(yè)號(hào)---第二課堂---課程報(bào)名中選擇“【百家大講堂】第262期：傳感器生產(chǎn)的薄膜工藝和設(shè)備制造”

【主講人簡(jiǎn)介】

  美國(guó)AVP科技公司總技術(shù)官,，中科院物理所固體物理博士,，為薄膜材料、半導(dǎo)體工藝和設(shè)備專家,。曾為中科院物理所付研究員,，UCSD研究科學(xué)家。也曾就職于西部數(shù)據(jù)公司,，任高級(jí)研發(fā)工程師,，負(fù)責(zé)寫磁頭薄膜沉積、刻蝕,，以及器件的工藝合成,。研發(fā)新材料、新工藝,，并制定工藝制度,，發(fā)現(xiàn)并解決器件工藝制備過程中各種問題。精通微納器件制造各種工藝流程,、設(shè)備特性,、研發(fā)和制造技術(shù)。在國(guó)際期刊發(fā)表50多篇學(xué)術(shù)論文,，并有十多個(gè)中,、美專利。曾為美國(guó)《Physical Review B》，《J. Appl. Phys.》及英國(guó)Institute of Physics 期刊雜志審稿人,。
  唐博士具有長(zhǎng)期的企業(yè)技術(shù),、企業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃實(shí)施和企業(yè)運(yùn)營(yíng)的豐富經(jīng)驗(yàn)。長(zhǎng)期以來,，負(fù)責(zé)各種~8英寸工業(yè)生產(chǎn)鍍膜機(jī)（PVD）,、離子刻蝕機(jī)（IBE）、反應(yīng)刻蝕機(jī)（RIE）,、離子鍍膜機(jī)（IBD）,，以及in-line光伏電池制備鍍膜設(shè)備的技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn),、銷售;同時(shí)負(fù)責(zé)各種薄膜材料工藝研發(fā),，包括，低損耗光學(xué)薄膜,，光伏薄膜,、超硬薄膜，極耐磨薄膜,，耐高溫,、高反射合金薄膜，防靜電薄膜等等,，并研究其機(jī)械,、光、電,、磁等物理性能,，及工業(yè)生產(chǎn)的安全性、可靠性,、持續(xù)性,、高產(chǎn)能、低消耗等生產(chǎn)要求,，使之應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)。負(fù)責(zé)企業(yè)日常運(yùn)營(yíng),、管理,。堅(jiān)持為客戶服務(wù)的理念，與客戶緊密合作,，了解客戶生產(chǎn)狀況,，及時(shí)幫助客戶分析、解決生產(chǎn)中的各種問題,；了解客戶新產(chǎn)品,、新技術(shù)開發(fā)前景，及時(shí)制定研發(fā)、生產(chǎn),、銷售戰(zhàn)略,，達(dá)到企業(yè)持續(xù)增長(zhǎng)。

【講座信息】

  介紹MEMS生產(chǎn)過程中薄膜沉積和刻蝕的基本工藝,，及相關(guān)PVD,、IBE等設(shè)備設(shè)計(jì)生產(chǎn)的基本要求。圍繞薄膜沉積,、刻蝕的基本要求,，如工藝特點(diǎn)、薄膜粘著性,、均勻度,、結(jié)構(gòu)、性能,、顆粒,、溫度、產(chǎn)能等,，介紹半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)計(jì)的一些思路和案例,。